在芯片制造的前道工藝中，設備的穩定性和精度是決定產物質量的關鍵因素。無論是光刻機、刻蝕設備，還是薄膜沉積和檢測設備，微小的振動或臺面不平整都可能導致產物缺陷。本文將全面介紹主動隔振與被動隔振技術的工作原理、特點及應用場景，并結合大理石臺面的優勢，展示它們如何為芯片制造帶來革命性的提升。

1.隔振技術：主動與被動隔振的對比與應用

1.1 工作原理

被動隔振

原理：利用機械結構或材料的固有特性（如彈性、阻尼）來隔離振動。

關鍵元件：彈簧、阻尼器、橡膠墊、氣墊等。

特點：無需外部能量輸入，通過物理隔離或吸收振動能量來減少傳遞。

主動隔振

原理：基于傳感器實時檢測振動信號，通過控制器計算反向力，再由作動器施加抵消振動。

關鍵元件：加速度計/位移傳感器、控制器（如筆濱頓或自適應算法）、電磁/壓電作動器。

特點：需要外部能量和閉環控制，動態生成反相振動波以實現精準抵消。

1.2 適用頻率范圍

被動隔振

低頻限制：在接近系統固有頻率時易發生共振，隔振效率下降。

高頻優勢：對高頻振動（如>10 Hz）隔離效果較好，適合穩態振動環境。

主動隔振

低頻優勢：可有效抑制低頻振動（甚至<1 Hz），如建筑物晃動或精密儀器微振動。

寬頻適應性：通過實時調節適應變頻率振動，覆蓋更廣頻段。

頻譜對比：
被動隔振頻譜：

主動隔振頻譜：

1.3 優缺點對比?

1.4 系統復雜性與成本

被動隔振

結構簡單：無電子部件，安裝維護便捷。

成本低：材料與制造費用較低，適合大規模應用。

主動隔振

系統復雜：依賴傳感器、控制器和作動器的協同工作，需算法開發和校準。

成本高：電子元件與研發投入較大，適用于高價值場景。

1.5 典型應用場景

被動隔振

工業設備：減少機床、發電機振動傳遞。

民用領域：汽車減震器、建筑隔震支座。

常規實驗室：光學桌、防震臺。

主動隔振

高精度儀器：半導體制造設備、電子顯微鏡。

航空航天：衛星姿態控制、航天器精密載荷隔振。

2. 大理石臺面：穩定的基石，確保高精度加工

在精密制造中，工作臺的平整度和穩定性直接影響設備的運行精度。大理石臺面能夠為設備提供一個極其平整的工作平臺，確保設備在運行過程中不會因為臺面的微小變形而影響精度。

大理石臺面的優勢：

高平整度：確保設備在運行過程中不會因為臺面不平而產生誤差。

高穩定性：大理石材質具有極低的熱膨脹系數，能夠在溫度變化時保持尺寸穩定。

抗振性能：大理石臺面能夠有效吸收和分散外界振動，減少對設備的影響。

應用場景：

光刻機：確保光刻膠的精確涂

刻蝕設備：在納米精度上進行精確加工，確保芯片電路的完整性。

薄膜沉積設備：確保薄膜厚度的均勻性。

3. 推薦搭配：高精度運動控制解決方案

為了進一步提升芯片制造設備的綜合性能，我們推薦將隔振系統和大理石臺面與以下高精度運動控制組件配合使用：

卓立高精度電動滑臺：

重復定位精度&辮瀕恥蟬塵蒼;1μ塵

與主動隔振系統配合可消除運動微振動

超高精度壓電滑臺：

納米級分辨率，亞微米級定位精度

大理石平臺保障其長期穩定性

4. 主動隔振與大理石臺面的完*結合

在芯片制造的前道工藝中，主動隔振系統和大理石臺面的結合能夠為設備提供雙重保障。大理石臺面的高平整度和穩定性為設備提供了一個理想的工作平臺，而主動隔振系統則進一步消除了外界振動對設備的干擾。這種組合特別適合用于光刻機、刻蝕設備、薄膜沉積設備等對穩定性和精度要求*高的設備。

測試數據支持：

主動隔振系統在10 Hz頻率下，振動傳遞率低至-40 dB（X軸）、-37 dB（Y軸）和-35dB（Z軸）。

大理石臺面的垂直度誤差控制在0.002 mm以內。

5. 總結

在芯片制造的前道工藝中，設備的穩定性和精度直接決定了產物的質量和生產效率。通過結合主動隔振系統和大理石臺面，并搭配高精度運動控制組件，我們能夠為芯片制造提供完整的超精密解決方案。主動隔振技術尤其適用于低頻振動環境和高精度需求場景，而被動隔振技術則在高頻振動和成本敏感領域表現出色。

選擇建議：

被動隔振：適合成本敏感、高頻振動場景

主動隔振：推薦用于半導體精尖制程中

大理石臺面：高精度設備的理想基座

通過系統化整合這些關鍵技術，科研院所和公司可以在先進制程領域獲得顯著的競爭優勢。